Stanowisko do obróbek RF/MW CVD MicroSys 400 PECVD-System

Dane techniczne
  • Średnica stolika: 200 mm
  • Maksymalna temperatura w komorze: 800°C
  • Zasilacz RF o mocy 600W
  • Zasilacz MW o łącznej mocy 1000W
Wyposażenie
  • Schładzacz przemysłowy B 300 B/8.2
  • Pompa próżni wstępnej TRIVAC D 65 BCS-PFPE (65m3/h)
  • Pompa turbomolekularna TURBOVAC SL 700 (690l/s dla N2)
  • Kompresor Aircraft MOBILBOY F311/50
  • Jednostka komputerowa
Osoba do kontaktu Michał Tarnowski
Zakład Zakład Inżynierii Powierzchni
Lokalizacja na Wydziale Budynek NT p. 016