Szczególne miejsce w prowadzonych badaniach zajmuje technologia impulsowego rozpylania magnetronowego wysokiej mocy HiPIMS, umożliwiająca generowanie silnie zjonizowanej plazmy oraz precyzyjne kształtowanie przebiegu procesu osadzania i właściwości otrzymywanych powłok. W ramach realizacji projektu firma TRUMPF Huettinger udostępniła Wydziałowi dwa systemy zasilania: impulsowy zasilacz dużej mocy przeznaczony do procesów HiPIMS oraz zasilacz prądu stałego wykorzystywany w procesach rozpylania magnetronowego DC.

Kierownikiem projektu jest dr inż. Rafał Chodun, a w realizację badań aktywnie zaangażowany jest również dr inż. Bartosz Wicher.

Podczas ostatniego spotkania na Wydziale zaprezentowano cząstkowe wyniki dotychczasowych badań oraz omówiono kierunki dalszych prac. Ze strony firmy TRUMPF Huettinger w spotkaniu uczestniczyli dr inż. Wojciech Gajewski, lider zespołu badawczo-rozwojowego, oraz mgr inż. Wojciech Trzewiczyński, członek zespołu R&D.

Goście zapoznali się z infrastrukturą laboratoryjną Zespołu Plazmowej Inżynierii Powierzchni WIM PW oraz jego możliwościami badawczymi i wykonawczymi w zakresie technologii plazmowych, rozpylania magnetronowego, inżynierii powierzchni oraz projektowania i wytwarzania nowoczesnych cienkich warstw i powłok. Mieli również możliwość poznania potencjału Laboratorium Mikroskopii Elektronowej WIM PW, kierowanego przez dr. inż. Tomasza Płocińskiego, w tym możliwości zaawansowanego obrazowania oraz analizy struktury i składu chemicznego materiałów z wykorzystaniem mikroskopii elektronowej.

W spotkaniu uczestniczył także prof. dr hab. inż. Tomasz Wejrzanowski, Prodziekan ds. Ogólnych i Nauki WIM PW. Podczas rozmów podkreślono znaczenie współpracy nauki z

przemysłem oraz perspektywy dalszego rozwoju wspólnych badań nad nowoczesnymi źródłami zasilania, technologiami plazmowego osadzania precyzyjnie projektowanych powłok, a także możliwość wspólnego ubiegania się o środki finansowe na realizację kolejnych projektów badawczo-rozwojowych.

Rozwijana współpraca stanowi przykład efektywnego połączenia potencjału naukowego i infrastruktury badawczej Politechniki Warszawskiej z wiedzą oraz doświadczeniem technologicznym partnera przemysłowego. Jej rezultaty mogą przyczynić się do dalszego rozwoju technologii HiPIMS, nowoczesnych systemów zasilania procesów plazmowych oraz metod wytwarzania powłok o kontrolowanym składzie, strukturze i właściwościach użytkowych.